中国招聘前ASML工程师打造出极紫外光刻机原型机
华盛顿多年来一直试图阻止的东西可能在中国深圳的实验室诞生，路透社报道，中国科技人员在深圳一家高度戒备的实验室里制造出一台能够生产尖端半导体芯片的光刻机原型机。
报道援引消息人士称，这台由荷兰阿斯麦(ASML)前工程师团队于2025年初制造的机器正在进行测试，并成功产生了极紫外线，但尚未生产出可用的芯片。据指这些工程师对ASML的极紫外光刻机(EUV)进行了逆向工程。
迄今为止，只有位于荷兰费尔德霍芬的ASML公司掌握EUV技术。其设备对于制造英伟达和AMD等公司设计的、以及台积电、英特尔和三星等芯片制造商生产的最先进芯片至关重要。
极紫外光刻机是美中科技战的核心，它利用极紫外光束在硅晶圆上蚀刻出比头发丝细数千倍的电路，西方目前垄断着这一技术。
ASML首席执行官富凯今年4月表示，中国需要“很多很多年”才能研发出这一技术，但路透社的报道显示，中国在实现半导体自主方面可能比分析师预期的要快得多。
路透社援引的两位知情人士透露，中国在二手市场获得旧款ASML机器的零部件，得以最终制造出国产原型机。北京的目标是在2028年在这一原型机上生产出可用的芯片，但了解这一项目的人认为，2030年实现这一目标比较现实。
深圳的极紫外光刻机项目一直秘密进行，路透社援引三位消息人士称，华为在协调遍布全国的公司和国家科研机构网络中发挥着关键作用。
这一秘密计划被形容为中国版的曼哈顿计划，即美国在二战期间研制原子弹的计划。这一计划极其保密，一位拥有阿斯麦背景的资深中国工程师对他获得的高额签约奖金感到惊讶，更意外的是他收到的身份卡使用了假名。
这位人士进入试验室后，认出了其他几位前ASML同事，他们也都使用假名工作，他被要求在工作中必须使用假名以保密。另一名知情人士也独立证实，新员工会被发放假身份卡，以向其他员工隐瞒真实身份。
两位人士披露，相关指示很明确：由于项目被列为国家安全项目，任何人都不能透露他们正在建造什么，甚至不能透露他们身在此地。
知情人士透露，该团队包括近期退休的华裔前 ASML 工程师和科学家——他们是主要的招聘目标，
两名目前在荷兰工作的华裔ASML员工告诉路透社，至少从2020年起，华为招聘人员一直在接触他们。
荷兰情报部门在 4 月份的一份报告中警告说，中国“利用广泛的间谍活动，试图从西方国家获取先进技术和知识”，包括招募“西方科学家和高科技公司的员工”。
ASML告诉路透社，该公司“严密保护”商业秘密和机密信息，但目前无法确定是否已对参与中国光刻项目的前ASML员工采取任何法律行动。
根据路透社披露：
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在深圳一处高度戒备的实验室内
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中国科学家据称制造出一台 EUV 光刻机原型
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该设备于 2025 年初完成组装，目前处于测试阶段
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项目团队由 前 ASML 华人工程师组成
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通过 逆向工程实现
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目前已能产生极紫外光，但 尚无法生产可工作的芯片
“芯片迈哈顿计划”的官方叙事
报道进一步称：
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该项目被描述为 中国版“曼哈顿计划”
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由中国最高领导人习近平亲自部署
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是一项 长达 6 年的国家级战略
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华为在其中扮演关键协调角色
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调动数千名工程师和科研机构
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实施极端保密措施：
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使用假名
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持有假身份证
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实验室严禁外部通讯
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部分华为员工工作日不得回家，吃住在园区
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报道认为，这意味着中国在半导体自主化进程中，速度可能快于西方分析师此前预期。
ASML CEO 曾在今年 4 月表示，中国至少还需要“很多年”才能开发出类似技术。
中国芯片迈哈顿计划制造极紫外光光刻机？纯粹鬼扯！ASML五千家供应商，没有一家来自中国！
EUV光刻机中，ASML技术占20%，80%是美、德、日、英提供。ASML并不是自己一家在造EUV光刻机，可以说ASML的EUV光刻机，是整合了全球最先进的资源，制造出来的。
ASML的背后，代表的就是全球芯片供应链的整合利益，ASML只是代言者，其它厂商不会同意有另外一家EUV光刻机厂商出来，与ASML竞争
代表光刻机最高端技术的EUV光刻机里面有10万多个零部件，全球超过5000家供应商，而这些零部件供应商遍布全球，如上图所示，核心零部件来自德国和美国。
在整个光刻机中，荷兰腔体占20%，英国真空占12%，美国光源占27%，德国光学系统占14%， 日本的材料占27%。
所以ASML的EUV光刻机，其实就是荷兰、英国、美光、德国、日本等厂商，甚至说是产业链的意志体现，ASML只是一个代言人而已。
ASML作为攒局者，将这些供应链整合在一起，大家形成一个利益团体，排队其它厂商进入这个团体的可能。
其它厂商，要想制造出EUV光刻机，要么另外建立一条同样的产业链出来，要么打入这一条产业链，但很明显，都不太可能，所以全球队了ASML，目前暂时没有第二家厂商能够制造ASML光刻机。
不仅如此，其它光刻机厂商，也知道这个情况，所以也基本不研究EUV光刻机这条路线，大家另辟蹊径，比如佳能搞NIL纳米压印等，均是这个原因。
所谓“三大突破路径”的荒谬性
1. 人才引进
报道称，中国自 2019 年起启动激进引才计划：
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为海外专家提供 300–500 万人民币签字费
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提供购房补贴
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允许部分已入籍他国的华人专家 保留双重国籍
但这一数字折合美元不过数十万美元。在全球科技行业，这并不足以吸引顶级工程师。另外，该光刻机光零件就有十万个，如果一切中国制造的化，至少要有十万名ASML回来的专家。可能吗？即使一半零部件自己造，还需要五万ASML专家呀。现在专家可不是一个人什么都懂的时代了。
2. 零部件获取
由于无法获得最新光学系统：
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通过科研机构自行攻关
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在二级市场、拍卖会搜集旧款 ASML 零件
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通过中介购买受限的尼康、佳能组件
这实质上是 从二手市场回收旧零件进行拼装。这些10万零部件全部来自国外，如果能够收集齐全，也是吹牛。除非他们拆掉ASML光刻机上现成的零部件。
3. 逆向工程
报道称：
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由约 100 名应届毕业生
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负责拆解、重组光刻机组件
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全程录像
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成功复原者可获奖金
如果逆向工程真如此有效，ASML 本身就不会存在。如果这些电子元器件能够复原，ASML厂早被人复制了。
八、逻辑无法自洽的核心问题
报道中的所有要素，并非中国独有：
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二级市场配件，其他国家也能买
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ASML 工程师，美国、欧洲、日本同样有
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应届毕业生，中国并无明显优势
若这些条件足以制造 EUV 光刻机，那全世界早已遍地开花。
九、时间表的再次后移
报道承认：
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官方目标：2028 年生产可用芯片
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项目内部人士认为：2030 年更现实
最终目标是 完全用国产设备制造先进芯片，将美国彻底踢出供应链。
十、这类故事真正的用途
这类叙事的核心目的有二：
第一：对内汇报
通过外媒包装阶段性“成果”，向高层展示“工作进展”，以争取更多产业基金。
第二：对外施压（顺带）
试图让美国相信技术突破，从而放松制裁。
但核心仍是第一点。
欺骗习近平而已，别人谁都骗不了